De Moment gëtt DB-FIB (Dual Beam Focused Ion Beam) wäit an der Fuerschung an der Produktinspektioun iwwer Felder applizéiert wéi:
Keramik Materialien,Polymer,Metallesch Materialien,Biologesch Studien,Semiconductors,Geologie
Hallefleitmaterialien, organesch kleng Molekülmaterialien, Polymermaterialien, organesch / anorganesch Hybridmaterialien, anorganesch net-metallesch Materialien
Mat dem schnelle Fortschrëtt vun der Hallefleitelektronik an der integréierter Circuittechnologien, huet d'Erhéijung vun der Komplexitéit vun den Apparat- a Circuitstrukturen d'Ufuerderunge fir mikroelektronesch Chipprozessdiagnostik, Feeleranalyse a Mikro / Nano-Fabrikatioun erhéicht.Dual Beam FIB-SEM System, mat senge mächtege Präzisiounsbearbechtung a mikroskopesch Analysefäegkeeten, ass onverzichtbar an der mikroelektronescher Design an der Fabrikatioun.
Dual Beam FIB-SEM Systemintegréiert souwuel e Focused Ion Beam (FIB) an e Scanning Electron Microscope (SEM). Et erméiglecht Echtzäit SEM Observatioun vu FIB-baséiert Mikromachining Prozesser, kombinéiert déi héich raimlech Opléisung vum Elektronenstrahl mat de Präzisiounsmaterialveraarbechtungsfäegkeeten vum Ionstrahl.
Site-Spezifesch Kräiz-Sektioun Virbereedung
TEM Sample Imaging an Analyse
SWahlpflichtfächer Etching oder Enhanced Etching Inspection
Metal an isoléierend Layer Oflagerung Testen